AZ  MIR900 系列光刻胶
厚膜高解像度高感光度I线正型光刻胶(Thick-film High Resolution i-line Positive-tone Photoresist  for High-dose Implantation Process)
厚膜，高分辨率高感光度I线正型光刻胶，适用于超高剂量离子注入工艺和厚金属层蚀刻工艺
Thick-film,high resolution high sensitivity i-line positive-tone
photoresist,sui for ultra high dose implantation thick metal
etching processes

特 征（FEATURES）
1) 在超厚膜工艺上达成高分辨率和高感光度
2) 高对准精度
3) 在8um厚度下可使用2.38%TMAH显影液
参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）
前烘             ：90℃ 90秒 (DHP)
曝光             ：I线步进式曝光机
曝光后烘烤  ：110℃ 30秒 (DHP)
显影             ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 90秒 Puddle
清洗             ：去离子水30秒
后烘             ：120℃ 120秒(DHP)
剥离             ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化
产品型号(PRODUCT RANGE)
Product Name:                AZ MIR-900   AZ MIR-950
 Viscosity:                              46mPa          75mPa

深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...
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