AZ  顶部防反射涂层材料(AZ AQUATAR系列)
应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层(Top Anti Reflective Coating for Ultra High Resolution Patterning)
在超高分辨率下，有必要使用AZ AQUATAR系列改善光刻胶线宽，并降低薄膜干涉造成的驻波效应
AZ AQUATAR series are essential item to improve the photoresist linewidth
control reduce sting waves caused by thin film interference effects at
Ultra high resolution Sub-half micron onwards
特 征（FEATURES）
1) 适用于各种高解像度I线/KrF/ArF光刻胶
2) 提高了光刻胶表面的亲水性，有效地减少了显影引起的缺陷
3) 水溶性溶液，因此适于加入现有的工艺中
参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）
条件1
 1) 涂布光刻胶                     
2) 前烘
3) 涂布AQUATAR
 4) 前烘
5) 曝光
6) 曝光后烘烤
7) 显影

条件2
 1) 涂布光刻胶                     
2) 前烘
3) 涂布AQUATAR
 4) 曝光
5) 曝光后烘烤
6) 显影

条件3
 1) 涂布光刻胶                     
2) 涂布AQUATAR
 3) 前烘
4) 曝光
5) 曝光后烘烤
6) 显影

条件4
 1) 涂布光刻胶                     
2) 前烘                                      工艺条件必须根据下层的光刻胶制定
3) 涂布AQUATAR     
4) 前烘                                      在AQUATAR涂布时，AZ EBR7030可以用于晶边去胶
5) 曝光
6) AQUATAR剥离      
7) 曝光后烘烤
8) 显影                                     去离子水适用于AQUATAR剥

产品型号(PRODUCT RANGE)
 Product Name:       AZ AQUATAR     AZ AQUATAR-45       AZ AQUATAR-Ⅲ-45       AZ AQUATAR-Ⅵ
 Exposure:                  i-line(365nm)       KrF(248nm)                      KrF(248nm)                   ArF(193nm)
 Refractive Index:           1.44                     1.48                                    1.43                                 1.45
深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...
主要客户群体：三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究所.
许总 15220133370 QQ:332767299 0755-28190294

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