大学研究所专超厚膜，高对比度正性光刻胶AZ P4400 AZ P4903
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超厚膜高感光度G线标准正型光刻胶,超厚膜，高对比度，高感光度正型光刻胶，适用于半导体制造及 GMR磁头制造,高对比度，高感光度,高附着性，对电镀工艺高耐受性
应用于双稳微束制备工艺,小型化衍射干涉测距传感器,光纤通信中集成聚合物微透镜,制备大面积硅球形微透镜阵列,用于振动诱导流量主动控制的气动微型气球
嵌入高压质子交换膜水电解槽中用于实时显微测量的耐高压柔性七合一微传感器
用于后端集成的横向伸展型压电ZnO-on-Nickel射频MEMS谐振器
用于实时显微诊断的低温柔性微型氢传感器
用氧化石墨烯对全氟表面进行图案化及微阵列应用

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