AZ  10XT 系列光刻胶
应用于电镀工艺的超厚膜，高分辨率I线正型光刻胶(Ultra Thick Film High Resolution i-line Positive-tone Photoresist for Plating Process)
超厚膜，高分辨率，高纵宽比I线正型光刻胶，适用于微电镀工艺
 Ultra-thick film high resolution high aspect ratio positive-tone i-line
photoresist for micro-plating processes
特 征（FEATURES）
 1) 高分辨率，高纵宽比
2) 高附着性，对电镀工艺高耐受性
3) 多种粘度可供选择
参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）
前烘             ：100℃ 90秒以上 (DHP)
曝光             ：I线步进式曝光机/接触式曝光系统
显影             ：AZ400K显影液(1:4) 23℃ 60~300秒 Dip
                           ：AZ300MIF显影液23℃ 60~300秒
清洗             ：去离子水
后烘             ：120℃ 60秒以上
剥离             ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化
产品型号(PRODUCT RANGE)
 Product Name:                   AZ 10XT(220cP)          10XT(520cP)
 Viscosity:                                  220mPa                     520mPa

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