AZ 6100 系 列 光 刻 胶
高感光度高热稳定性G线正型光刻胶（High Sensitivity & High Heat Stability g-line Positive-tone Photoresist）
广泛应用于大规模集成电路的高感光度高热稳定性G线正型光刻胶
High sensitivity & high heat stability g-line positive-tone photoresist
for general purpose~semi-critical process
特 征（FEATURES）
1) 通过提高光刻胶的热稳定性，从而改善了干法刻蚀的工艺窗口
2) 高感光度带来了高产出率
3) 很宽的膜厚范围
参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）
前烘 ：100℃ 60秒 (DHP)
曝光 ：G线步进式曝光机/接触式曝光机
显影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle
清洗 ：去离子水30秒
后烘 ：120℃ 120秒 (DHP)
剥离 ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化
Product Name： AZ6112 AZ6124 AZ6130
Viscosity： 13mPa 43mPa 69mPa
深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...
主要客户群体：三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究所.
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不含PFOS和PFOA 可溶于水的Non PFOS和Non PFOA的顶部防反射涂层
深圳市芯泰科光电有限公司
产品热线许经理 :13玖23八66554 扣扣：35捌9123零
AQUATAR-Ⅷ系列不含PFOS和PFOA 可溶于水，使用方法与现有的TARC材料相同
适用于各种高分辨率I线/KrF/ArF光刻胶
提高了光刻胶表面的亲水性，有效地减少了显影引起的缺陷
水溶性溶液，因此适于加入现有的工艺中
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