AZ  DX5200P 系 列 光 刻 胶
应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率KrF正型光刻胶(KrF Excimer Laser Positive-tone Photoresist for Contact Hole Trench)
超高分辨率KrF正型光刻胶，为沟槽及通孔图形优化
 High resolution KrF excimer laser positive-tone photoresist,optimized for
trench Contact Hole pattern
特 征（FEATURES）
1) 高分辨率，大焦深
2) 适用于HT-PSM光罩和普通Binary光罩
3) 适用于各种衬底
参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）
前烘 ：90℃ 60秒 (DHP)           
曝光 ：KrF步进式曝光机
曝光后烘烤  ：120℃ 90秒 (DHP)
显影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle
清洗 ：去离子水30秒          
剥离 ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化
产品型号(PRODUCT RANGE)
 Product Name:            AZ DX2546P          AZ DX5200P
 Viscosity:                             6cP                           8cP

深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...
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