HighRI Optics无溶剂型紫外纳米压印光刻（UV-NIL）
Solvent Free UV Cure 1.65 是无溶剂、折射率 1.65 的 UV 固化材料，专为紫外纳米压印设计，5–15μm 中厚膜成型、无收缩、耐热 150℃，广泛用于微纳光学、AR/VR、微流控、MEMS 及柔性器件制造。

核心应用场景
1、紫外纳米压印 UV-NIL（核心）   许总：15220133370
微米 / 纳米光栅、衍射结构、微凹槽阵列
无溶剂→无收缩、无气泡、图形精度极高
专做 5–15μm 中厚膜结构
2、微纳光学元件
衍射光学元件（DOE）、微透镜阵列、微棱镜
照明 / 成像 / 显示用光学薄膜结构
耐热 150℃，可兼容后续工艺
3、AR/VR 光学微结构
光波导耦合结构、衍射光栅、微光学组件
成型稳定、良率高、适合批量复制
4、微流控芯片 & 生物传感
微通道、微腔、检测光栅、细胞培养结构
无溶剂、生物相容性好、表面洁净
5、MEMS 微结构制造
微结构复刻、绝缘层、保护层、支撑结构
中厚膜一次成型，应力低、可靠性高
6、柔性光学 & 柔性电子
柔性基底微结构、柔性光学膜、曲面器件
无溶剂、低应力、适配塑料 / 柔性基材
7、微模具 / 热压印母版
塑料微注塑、热压印模具结构
硬度适中、脱模性好、寿命稳定

一、产品基础信息
本品为HighRI Optics公司推出的无溶剂型紫外（UV）固化材料，专为紫外纳米压印（UV-NIL） 工艺设计。
二、核心性能参数
表格
项目 关键指标
折射率（RI） 1.65
粘度 500–1500 mPas
溶剂体系 无溶剂（Solvent Free）
成膜厚度 5–15 μm
热稳定性 150 ℃
固化方式 UV 紫外光固化
适用工艺 紫外纳米压印（UV-NIL）
涂布方式 不可旋涂（Not for Spincoating）
三、材料与工艺特点
配方特点
采用无溶剂体系，无 VOC 排放，固化后无收缩、无气泡。
属于 UV 固化体系，成型速度快、工艺适配量产线。
工艺限制
不支持旋涂工艺，仅适用于纳米压印工艺。
成膜厚度范围为5–15 μm。
热性能
热稳定性可达150℃，可承受常规后段封装与热处理工艺。
微纳成型能力
文档附带多张SEM 电镜图，证实材料可实现纳米级高精度结构加工。
结构尺寸可达200 nm 以下，适用于微纳光学、光栅等器件制备。
四、应用方向
材料定位于紫外纳米压印场景，用于制造微纳光学、MEMS、微流控、生物传感等高精度微纳结构。
4. 关键问题
问题：该材料的核心优势是什么？
答案：核心优势是无溶剂体系，配合折射率 1.65、耐热 150℃，在纳米压印中可实现无收缩、高精度成型。
问题：该材料的适用膜厚范围与工艺限制是什么？
答案：适用膜厚为5–15 μm；工艺限制是不可旋涂，仅能用于紫外纳米压印。
问题：该材料的结构成型能力如何，有何证明？
答案：具备优异的纳米级结构成型能力，结构可达200 nm 以下，文档通过SEM 电镜图片直接验证。