HighRI Optics纳米压印光刻胶HighRI-Nano1.90
HighRI-Nano1.90 是纳米复合体系、折射率 n=1.90 的紫外固化光刻胶，专为紫外纳米压印设计，高透明、低固化剂量、超高折射率，广泛用于 AR/VR 光栅、光波导、超构表面、光子晶体与光电器件制造。

核心应用场景
1、紫外纳米压印光刻（UV-NIL）（核心）  许总：15220133370
纳米光栅、光子晶体、超构表面、耦合光栅
高深宽比、纳米级高精度光学结构
n=1.90 超高折射率大幅提升光控制能力
2、AR/VR 衍射光学元件
阵列光波导、耦合光栅、出瞳扩展结构
高折射率提升衍射效率、光效更高
3、可见光 / 近红外微纳光学
高折射率光波导、谐振腔、滤波结构
微透镜阵列、衍射光学元件 DOE
4、光子集成芯片（PIC）
光耦合器、模场匹配层、光斑转换器
高折射率薄膜结构，提升集成度
5、LED / 光电探测器光耦合层
光提取层、增透层、耦合层
高透明、高折射率，提升出光 / 接收效率
6、半导体光学微纳结构
硅光、氮化硅光芯片配套光学结构
纳米压印批量制造，一致性好
7、生物传感 / 检测光学芯片
等离子传感、光栅传感、微流控光学检测
高透明、化学稳定、纳米结构精度高
8、科研实验室：高 RI 纳米光学原型
高校 / 研究所做超高折射率纳米光学器件
旋涂简单、固化极快、成型精度高

一、产品基础信息
HighRI-Nano1.90是 HighRI Optics 公司推出的纳米复合紫外固化光刻胶，专为紫外纳米压印光刻（UV-NIL） 开发。
二、核心性能参数
表格
项目 关键指标
化学类型 丙烯酸酯（Acrylates）
折射率 @590nm 1.90
外观状态 液态
溶剂 PGMEA
固化方式 紫外光固化
固化条件 365nm，2.5J/cm2
400nm 透过率 97%
涂布方式 旋涂（Spin coating）
纳米压印能力 支持（Yes）
三、材料组成
体系：纳米复合材料
成分：纳米晶体 + 聚合物粘结剂
优势：兼顾超高折射率与加工性
四、工艺与使用要点
涂布方式：采用旋涂工艺
固化条件：
波长：365nm
能量：2.5J/cm2（低剂量快速固化）
存储要求：必须冷藏保存
固化注意：氧气会表面固化，建议惰性气氛
成型能力：可实现纳米光栅等高精度结构（附 SEM 截面图）
五、光学特性
折射率在可见光区稳定在1.90
400nm 处透过率 97%，光学透明度优异
纳米复合结构保证压印精度与光学性能
4. 关键问题
问题：HighRI-Nano1.90 的核心材料体系和折射率是多少？
答案：核心是纳米晶体 + 聚合物基体的纳米复合材料，590nm 处折射率为 1.90。
问题：该胶的固化条件是什么，相比普通高 RI 胶有何优势？
答案：固化条件为365nm、2.5J/cm2，固化剂量极低、速度更快，适合量产。
问题：使用 HighRI-Nano1.90 必须注意哪两个关键事项？
答案：一是需要冷藏保存；二是氧气会表面固化，固化时应隔绝空气。