浓度锑（Sb）掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源（Spin-on-Glass Sb-380）
浓度锑掺杂旋涂玻璃液态源，专为硅基半导体、功率器件、射频器件、高压 IC 提供高浓度、高均匀、高稳定的 N 型 Sb 扩散掺杂，是替代剧毒气态锑源的安全、低温、重掺杂方案。

核心应用场景：
1、硅基半导体 N 型重掺杂
用于制作N+ 深埋层、N 型阱、源漏极重掺杂、发射区                             许总：15220133370
实现高浓度、低方块电阻的稳定 N 型掺杂
2、功率器件：MOSFET / IGBT / LDMOS
高浓度 Sb 扩散形成低阻导通区、场限环、终端结构
提升耐压、耐高温、高可靠性
3、高频射频器件（RF / 微波器件）
锑扩散适合深结、低损耗、高稳定射频结构
用于射频功率管、微波开关、衰减器
4、图像传感器、光电二极管、CCD
调控载流子浓度与寿命，降低暗电流
提升灵敏度、均匀性、信噪比
5、高压功率 IC / 模拟 IC / BCD 工艺
适合高压、大电流、高可靠性芯片掺杂
满足车规6、、工业级器件要求
化合物半导体（GaAs、GaN、SiC 配套）
用于欧姆接触、缓冲层、异质结掺杂
适配高温、高频、大功率器件制程
7、深能级掺杂与缺陷调控
锑作为深能级杂质，用于寿命控制、漏电、击穿调整
用于整流器件、探测器、特殊功率器件
8、科研 / 小批量流片（MPW）
安全液态源，无需剧毒气态 Sb 源
旋涂工艺简单，适合实验室与小批量试制

一、产品基本信息
产品全称：Spin-on-Glass Sb-380
产品类型：浓度锑（Sb）掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源
生产厂商：Desert Silicon, Inc.
二、核心成分与关键参数
表格
项目 关键信息
目标元素 In、Si、O、Sb
锑原子浓度 4×1021 atoms/cm3
薄膜核心元素 锑（Sb）
粘度 0.9 cps
折射率 1.40
旋涂成膜厚度 1500 ?（3000 rpm）
固化起始温度 200℃
致密化温度 650℃及以上
硅基扩散温度 1200–1250℃
保质期 20℃：3 个月；4℃：9 个月
纯度等级 <1 ppm 或 <50 ppb
三、产品核心优势
浓度锑掺杂，可实现硅衬底2×101?量级高浓度掺杂
薄膜涂覆均匀，一致性优异
高纯度材料，杂质控制严苛
维护与使用成本更低，制程经济性好
工艺稳定，不受流量影响
支持定制目标掺杂浓度
四、典型应用说明
应用领域：半导体高浓度锑掺杂工艺
掺杂能力：可在硅衬底中实现2×101?量级掺杂浓度
固化特性：200℃ 形成低密度固态膜；650℃以上持续致密化
扩散温度：硅基1200–1250℃；化合物半导体使用更低温度
工艺建议：烘烤温度不低于后续制程温度
后处理：掺杂扩散完成后玻璃层可去除
五、包装与可添加元素
包装规格：240ml、500ml、1L、2.5L、4L
可添加元素：As、Sb、Bi、Ga、Al、Sn，支持化合物半导体专用配方
六、免责与安全提示
文档信息不提供任何明示或暗示担保
用户需自行验证产品适用性并承担使用风险
健康与安全信息请查阅MSDS文件
4. 关键问题
问题：Sb-380 的核心掺杂元素、浓度与硅基扩散温度是多少？
答案：核心掺杂元素为锑（Sb），浓度4×1021 atoms/cm3；硅基扩散温度为1200–1250℃。
问题：Sb-380 的成膜条件、固化温度区间与核心优势是什么？
答案：3000rpm旋涂形成1500?薄膜；200℃起始固化，650℃以上致密化；核心优势是浓度锑掺杂、高纯度、支持定制浓度。
问题：Sb-380 的应用场景、后处理方式与可添加元素有哪些？
答案：用于半导体高浓度锑掺杂；掺杂扩散后玻璃层可去除；可添加As、Sb、Bi、Ga、Al、Sn等元素。