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山东省青岛市李沧区DRAM存储芯材料研发用2026最专业推荐
山东省青岛市李沧区DRAM存储芯材料研发用2026最专业推荐
  • 供应产品:山东省青岛市李沧区DRAM存储芯材料研发用2026最专业推荐
  • 所属行业:服务 > 咨询
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  • 发布日期:2026/6/8 22:03:24
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供应信息

玻璃中TiO?含量为 52 wt%(SOG Ti-140)
含 52 wt% TiO? 的钛掺杂旋涂玻璃,是高介电、高折射率、可白膜标记的多功能旋涂材料,主要用于高密度电容介质、光电器件光学匹配、晶圆白色标记、紫外防护及化合物半导体钝化层。

核心应用场景:
1、超高介电常数(高 k)电容介质层(核心)
适用于 MIM 电容、MOS 电容、射频电容、模拟 / 混合信号 IC              许总:15220133370
介电常数高达 40,大幅提升电容密度、减小芯片面积
耐高温、漏电流低、可靠性高
2、高折射率光学匹配 / 耦合层
折射率 2.04,完美匹配半导体光器件、激光器、LED、PD
用于 光学耦合、波导包覆、增透膜、光路匹配
3、晶圆白色标记 / 边界 / 对准层
可形成稳定白色不透明膜,用于工艺分区、对准、掩膜、标识
耐高温、不脱落、兼容光刻 / 刻蚀 / 扩散工艺
4、紫外(UV)吸收保护涂层
强紫外吸收,保护 光敏器件、光刻区、光电芯片、功率器件
提升器件抗紫外老化能力
5、化合物半导体(GaN/GaAs/SiC)钝化 / 缓冲层
高 k 栅介质、表面钝化、应力缓冲
适用于 HEMT、功率器件、光电器件
6、光学薄膜:透明膜 / 散射膜可调
可通过工艺调控成致密透明膜或光散射膜
用于成像芯片、光学组件、背光结构
7、层间绝缘、沟槽填充与平坦化
半导体、MEMS、先进封装的 绝缘、隔离、平坦化
低温旋涂,不损伤敏感结构

一、产品基本信息
产品名称:SOG Ti-140
核心元素:Ti、Si、O
关键成分:玻璃中TiO?含量为 52 wt%
厂商:Desert Silicon, Inc.
二、关键性能参数
表格
参数项 数值
TiO?含量 52 wt%
介电常数 40
计算折射率(RI) 2.04
粘度 0.90 ± 0.25 cps
20℃保质期 3 个月
4℃保质期 9 个月
三、产品核心优势
优异的电容层间介质:介电常数高达 40,绝缘强度高,适合高密度电容制备。
成膜均匀:涂层一致性好,工艺稳定可靠。
高折射率:可匹配光电器件输入 / 输出接口,用于光学耦合与包覆。
白色标记涂层:可形成白色膜层,用于晶圆标记或光散射。
紫外吸收:可用于关键器件的紫外防护。
四、典型应用场景
半导体电容器:利用高介电常数与高绝缘特性制作 MIM/MOS/ 射频电容。
光电器件:用于光学输入 / 输出匹配、波导包覆层。
晶圆标记:形成白色边界,用于工艺定位与分区。
紫外防护:对敏感器件提供紫外吸收保护。
五、包装与替代方案
包装规格:240ml、500ml、1L、4L
替代产品:Ti-452
可改性元素:Y、Zr、Hf、Nb 及其混合物
4. 关键问题
问题:SOG Ti-140 的 TiO?含量、介电常数和折射率分别是多少?
答案:TiO?含量为52 wt%,介电常数40,计算折射率2.04。
问题:SOG Ti-140 相比普通钛掺杂旋涂玻璃,多出哪项重要功能?
答案:可形成白色涂层,用于晶圆标记或光散射,同时具备紫外吸收能力。
问题:SOG Ti-140 的主要应用领域和可替代产品是什么?
答案:主要用于半导体电容介质、光电器件匹配、晶圆标记、紫外防护;可替代产品为Ti-452。

联系方式
  • 企业名称: 深圳市芯泰科光电有限公司
  • 联 系 人: 许明久
  • 电 话: 0755-28190294 15220133370
  • Q Q: 332767299
  • 手 机: 0755-28190294 15220133370
  • 地 址: 深圳市龙华区大浪街道陶元社区中信科创园菊园411
  • 企业网址:http://www.ggsgg.com/coms/xintaike
  • 公司网站:http://www.ggsgg.com/coms/xintaike/
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其他产品信息
产品名称 产品价格 联系人 电话 发布日期
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