AZ  DX3200P 系 列 光 刻 胶
应用于通孔图形的KrF正型光刻胶(KrF Excimer Laser Positive-tone Photoresist for Contact Hole)
超高分辨率KrF正型光刻胶，为通孔图形优化
KrF excimer laser positive-tone photoresist,optimized for Contact Hole
pattern

特 征（FEATURES）
1) 工艺窗口大
2) 适用于half-tone相移光罩
3) 适用于密集线图形
参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）
前烘  ：80℃ 60秒 (DHP)          
曝光  ：KrF步进式曝光机
曝光后烘烤  ：110℃ 90秒(DHP)
显影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle
清洗 ：去离子水30秒
剥离：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化
产品型号(PRODUCT RANGE)
 Product Name:        AZ DX3200P
 Viscosity:                       9cP

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应用于超高分辨率图形 加工的顶部防反射涂层AZ AQUATAR系列
深圳市芯泰科光电有限公司
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应用于超高分辨率图形 加工的顶部防反射涂层,在超高分辨率下，有必要使用AZ AQUATAR系列改善光刻胶线宽， 并降低薄膜干涉造成的驻波效应
适用于各种高解像度I线/KrF/ArF光刻胶
提高了光刻胶表面的亲水性，有效地减少了显影引起的缺陷
水溶性溶液，因此适于加入现有的工艺中

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