深圳市芯泰科光电有限公司
更多>>
更多>>
更多>>
产品展示

安徽省六安市霍邱县HBM工艺材料论文用2026年专业推荐

单价:1.00
库存:1
公司名称:深圳市芯泰科光电有限公司
联 系 人:许明久
联系电话:0755-28190294
腾 讯 QQ:332767299
公司地址:深圳市龙华区大浪街道陶元社区中信科创园菊园411
产品分类:电子元器件
发布日期:2026/6/4 16:15:28
购物须知:
浏览次数: 点赞数: 收藏数: 关注数: 【赞一个】    【举报】    【收藏】    【关注】

非掺杂氧化硅旋涂玻璃液态源(Spin-on Glass NDG-500M)

NDG-500M是 Desert Silicon 推出的非掺杂纳米级氧化硅旋涂玻璃,核心成分为Si、O,3000rpm旋涂可形成500?(50nm)薄膜,20℃保质期 3 个月、4℃9 个月,250℃起始固化、600℃以上致密化,具备纳米级平坦化、低温成膜、高纯度、易复配等优势,主要用于MEMS、表面平坦化、微细间隙填充等非掺杂氧化硅涂层场景。

一、产品基本信息
? 产品全称:Spin-on Glass NDG-500M
? 产品类型:非掺杂氧化硅旋涂玻璃液态源
? 生产厂商:Desert Silicon, Inc.
二、核心成分与关键参数
表格
项目 关键信息
目标元素 Si、O(纯氧化硅体系)
折射率 1.44
介电常数 3.0
粘度 0.80 ± 0.15 cps
旋涂成膜厚度 500 ?(50 nm)(3000 rpm)
固化起始温度 250℃
致密化温度 600℃及以上
保质期 20℃:3 个月;4℃:9 个月
纯度 高纯度(低 ppb 级)
三、产品优势
1. 实现纳米级精细化平坦化
2. 低温制备氧化硅层,工艺兼容性强
3. 维护与使用成本更低
4. 高纯度材料,杂质控制在低 ppb 范围
5. 涂层均匀,覆盖一致性好
6. 基础配方易于复配其他元素改性
7. 工艺稳定,不受流量影响
8. 是制备氧化硅层的简易方法
四、典型应用
? 应用领域:MEMS 器件、表面平坦化、微细间隙填充
? 工艺特性:250℃烘烤形成低密度薄膜;升温至 600℃以上,膜层持续致密;建议按工艺温度烘烤
? 特性适配:低密度膜层适用于键合工艺;氧化硅膜熔点高,可添加元素降低熔点或调整折射率
五、包装、替代与可添加元素
? 包装规格:240ml、500ml、1L、2.5L、4L
? 替代产品:NDG-1000、NDG-2000、NDG-5000
? 可添加元素:Pb、Ge、Bi、Sn,支持多元素复配与化合物半导体专用配方
六、免责与安全提示
? 文档信息不提供任何明示或暗示担保
? 用户需自行验证适用性并承担使用风险
? 健康安全信息请查阅MSDS文件
________________________________________
4. 关键问题
1. 问题:NDG-500M 的核心成分、成膜参数与固化温度区间是什么?
答案:核心成分为Si、O纯氧化硅;3000rpm旋涂形成 500?(50nm) 薄膜;250℃ 开始固化,600℃以上进一步致密。
2. 问题:NDG-500M 的产品定位、核心优势与应用场景有哪些?
答案:定位非掺杂氧化硅旋涂玻璃;优势为纳米平坦化、低温成膜、高纯度、易复配;主要用于MEMS、表面平坦化、微细间隙填充。
3. 问题:NDG-500M 的纯度、保质期与可改性方案是什么?
答案:纯度为低 ppb 级高纯度;20℃保质期3 个月、4℃9 个月;可添加Pb、Ge、Bi、Sn等元素调整熔点与光学性能。

 

 产品名称:
 联 系 人:  
   数 量:  
 联系电话:  
  内  容: