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耐蚀刻正胶它是难附着表面厚膜高精度反射衬底低热基板厚胶刻蚀的理想正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力厚膜正性光刻胶，可实现厚膜图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制一核心应用场景难附着表面厚膜光刻匹配金属合金氧化物氮化物异质结等极易脱膜翘边底切的表面许总要求超高附着力，但不能不推荐使
发布日期：2026/7/15 0:19:34 - 浙江省杭州市下城区分立器件材料项目开发2026年友情推荐
高精度正胶它是难附着表面中厚膜高精度反射衬底低温简单制程的理想正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力中厚膜正性光刻胶，可实现中厚膜图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制反射缺口后易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶工艺简单兼容性强，广泛应用于难附着表面高反射衬底微细图形加工玻璃低
发布日期：2026/7/15 0:15:00 - 山西省晋中市平遥县开发用热线
高精度正胶它是难附着表面中薄层高精度反射衬底低温简单制程的理想正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力中薄层正性光刻胶，可实现中薄层图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制反射缺口后易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶工艺简单兼容性强，广泛应用于难附着表面高反射衬底微细图形加工玻璃低
发布日期：2026/7/15 0:11:31 - 河北省承德市平泉县半导体产品答辨用年度最佳供应商
高精度正胶它是难附着表面薄层高精度反射衬底低温简单制程的正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力薄层正性光刻胶，可实现薄膜图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制反射缺口后易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶工艺简单兼容性强，广泛应用于难附着表面高反射衬底微细图形加工玻璃低热导基板科
发布日期：2026/7/15 0:07:23 - 河北省保定市阜平县电子元器件论文用2026年特别推荐
高附着力正胶它是难附着表面超薄层高精度反射衬底低温简单制程的正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力超薄正性光刻胶，可实现超薄层图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制反射缺口后易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶工艺简单兼容性强，广泛应用于难附着表面高反射衬底微细图形加工玻璃低热导
发布日期：2026/7/15 0:03:53 - 山东省烟台市牟平区产品2026年友情推荐
电镀负胶厚金属电镀厚膜湿法刻蚀大功率器件的厚膜胶。是适用于紫外曝光的厚膜负性光刻胶，可实现厚膜图形化，具备高分辨率高感光度快显影耐高温在电镀与湿法刻蚀环境中附着力优异等特点，可通过或丙酮去除，且室温下保质期长达年。该光刻胶广泛应用于功率器件厚金属电镀厚膜湿法刻蚀传感器玻璃陶瓷基底加工等领域，尤其适合
发布日期：2026/7/14 21:06:49 - 香港新界西贡区咨询2026年专业推荐
负胶专门用于中厚金属电极的剥离工艺是适用于紫外曝光的中厚膜负性光刻胶，专为金属剥离工艺设计，显影后可形成负倾斜侧壁，且底切程度可通过曝光剂量灵活调节，具备高分辨率快显影耐高温易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶广泛应用于功率器件中厚金属电极传感器射频光电器件等领域，尤其适合需要中厚膜高精度无毛
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干湿蚀刻负胶是适用于紫外曝光的中薄层负性光刻胶，可实现膜厚图形化，具备高分辨率快感光快显影耐高温在电镀与湿法刻蚀环境中附着力优异等特点，可在室温下使用轻松去除，且室温保质期长达年。该光刻胶广泛应用于功率器件金属电镀湿法刻蚀传感器光电器件玻璃陶瓷基底加工等领域，尤其适合需要高附着力中薄层精细图形与湿法
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蒸镀剥离负胶它是薄层精细光刻金属剥离浅刻蚀的通用型光刻胶。是适用于紫外曝光的薄层负性光刻胶，可实现薄膜图形化，具备高分辨率高感光度快显影优异附着力耐高温易去除等特点，且在室温下保质期长达年。该光刻胶广泛应用于功率器件微细金属剥离传感器光电器件等领域，适合薄层精细光刻浅刻蚀掩模与微细电极图形化加工。一
发布日期：2026/7/14 20:53:50 - 甘肃省兰州市安宁区课题开发2026特别推产品
蒸镀负胶它是金属剥离工艺的专用胶是适用于紫外曝光的薄层负性光刻胶，专为金属剥离工艺设计，显影后可形成负倾斜侧壁，且底切程度可通过曝光剂量灵活调节，具备高分辨率快显影耐高温易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶广泛应用于功率器件微细电极传感器光电器件等领域，尤其适合需要高精度金属剥离无毛刺图形制备
发布日期：2026/7/14 20:48:53