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钛氧化物旋涂玻璃钛氧化物旋涂玻璃是高折射率高介电常数的低温旋涂材料，主要用于半导体电容介质太阳能电池减反膜光电器件光学匹配紫外防护晶圆键合及绝缘平坦化。核心应用场景半导体高密度电容器介质层核心射频电容模拟混合信号许总高介电高绝缘，提升电容密度与耐压太阳能电池减反射涂层新增重点高折射率大幅提升光吸收率
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钛掺杂旋涂玻璃钛掺杂旋涂玻璃是高折射率高介电常数的低温旋涂绝缘材料，主要用于半导体电容介质光电器件光学匹配晶圆键合紫外防护平坦化及光学薄膜制备。核心应用场景半导体电容器介质层电容射频电容模拟混合信号芯片许总高介电常数高绝缘强度，提升电容密度与可靠性光电器件光学匹配层折射率适配半导体光输入输出耦合光波
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纯钛氧化物旋涂玻璃纯钛氧化物旋涂玻璃是超高介电常数超高折射率的低温旋涂材料，主要用于半导体高密度电容光电器件光学匹配紫外防护晶圆标记及高端器件绝缘平坦化。核心应用场景半导体超高密度电容器介质层核心用途许总射频电容模拟混合信号电容介电常数，大幅提升电容密度减小芯片面积高绝缘强度，适合高压高可靠电容光通
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钛掺杂旋涂玻璃钛掺杂旋涂玻璃是高介电常数高折射率低温旋涂材料，主要用于半导体高密度电容介质光电器件光学匹配晶圆白色标记紫外防护及层间绝缘。核心应用场景半导体高密度电容器介质层核心用途许总电容电容层间电容射频电容高介电常数，大幅提升电容密度降低面积光学器件匹配与波导包覆高折射率用于光输入输出耦合光波导
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钛掺杂旋涂玻璃钛掺杂旋涂玻璃是高折射率高介电常数的低温旋涂绝缘材料，主要用于半导体电容器介质光通信器件光学匹配晶圆键合紫外吸收保护及器件平坦化与绝缘。核心应用场景半导体电容器介质层主要用途许总用于电容电容层间耦合电容高介电常数高绝缘强度，提升电容密度与耐压光学薄膜与光通信器件高折射率匹配光器件输入输
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超厚正胶它是难附着表面超厚膜光刻高深宽比刻蚀大结构图形低热基板的专用正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力超厚膜正性光刻胶，可实现超厚膜图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制反射缺口后易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶支持边缘珠去除工艺，超厚膜均匀性与结构稳定性优异，广泛应用于
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浓度锑掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源浓度锑掺杂旋涂玻璃液态源，专为硅基半导体功率器件射频器件高压提供高浓度高均匀高稳定的型扩散掺杂，是替代剧毒气态锑源的安全低温重掺杂方案。核心应用场景硅基半导体型重掺杂用于制作深埋层型阱源漏极重掺杂发射区许总实现高浓度低方块电阻的稳定型掺杂功率器件高浓度扩散形成低阻导通区
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浓度磷掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源浓度磷掺杂旋涂玻璃液态源，专为半导体功率器件光伏提供超高剂量型磷扩散掺杂，可替代，同时吸附可动离子提升可靠性，是高浓度低温安全均匀的重掺杂解决方案。核心应用场景半导体硅基型重掺杂高剂量扩散用于源漏极重掺杂阱深埋层发射区实现极低方块电阻，满足高导电高载流子浓度需求许总功率
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中浓度钇掺杂硅酸盐旋涂玻璃中浓度钇掺杂旋涂玻璃是高纯高温稳定的旋涂掺杂源，主要用于第三代半导体器件钝化与栅介质硅基器件缺陷钝化高温绝缘层及超导薄膜前驱制备。核心应用场景第三代半导体器件许总用作栅介质钝化层绝缘缓冲层栅极绝缘改性提升器件耐高温抗漏电耐压长期可靠性适用于功率器件硅基半导体掺杂与界面改性用
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