- 研究所专用高感光度高热稳定性正胶AZ 6130
系列光刻胶许总零高感光度高热稳定性线正型光刻胶广泛应用于大规模集成电路的高感光度高热稳定性线正型光刻胶特征通过提高光刻胶的热稳定性，从而改善了干法刻蚀的工艺窗口高感光度带来了高产出率很宽的膜厚范围许总零参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机接触式曝光机显影秒清洗去离子水秒后烘秒剥离剥离液及或氧等离子体
发布日期：2026/6/4 10:10:09 - 大学专用底部防反射涂层KrF-BARC
底部防反射涂层材料,,系列许总零应用于超高分辨率图形加工的底部防反射涂层在减小称底特别是高反射率称底的反射率，从而提高光刻胶线宽控制方面，的底部防反射涂层材料是一种必需的手段。该产品范围覆盖了线工艺，另外，它也适用于的工艺,,特征对线等高分辨率光刻胶具有很好的亲和性中性成分组成以及高温交联剂的使用使
发布日期：2026/6/4 10:10:08 - 研究所高精度电镀工艺的超厚膜正胶AZ PLP-30
系列光刻胶许总零应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶适用于和重布线的超厚膜，高分辨率，对电镀工艺高耐受性正型光特征高分辨率，高垂直性许总零在电镀工艺中不产生膨胀与裂缝高附着性参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机接触式曝光系统显影显影液秒清洗去离子水秒后烘秒以上剥离剥离液及或氧等离子体灰化产品型号深
发布日期：2026/6/4 10:10:07 - 光电研究所高精度电镀工艺的超厚膜正胶AZ PLP-40
系列光刻胶许总零应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶适用于和重布线的超厚膜，高分辨率，对电镀工艺高耐受性正型光特征高分辨率，高垂直性许总零在电镀工艺中不产生膨胀与裂缝高附着性参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机接触式曝光系统显影显影液秒清洗去离子水秒后烘秒以上剥离剥离液及或氧等离子体灰化产品型号深
发布日期：2026/6/4 10:10:06 - 光电研究所提高解晰率AZ RELACS涂布材料
涂布材料涂布材料许总零应用于超高分辨率图形加工的光刻胶收缩材料这是一种十分简单的工艺，通过涂布该材料和热处理之后在光刻胶涂层内侧形成硬化层，从而获得小于微米的通孔尺寸或沟槽线宽的微细图形可溶于溶剂型使用显影液可溶于纯水型使用去离子水显影与清边特征在标准光刻工艺无法处理的领域达到超高分辨率许总零适用于
发布日期：2026/6/4 10:10:05 - 研究所纯水显影型AZ RELACS涂布材料
涂布材料涂布材料许总零应用于超高分辨率图形加工的光刻胶收缩材料这是一种十分简单的工艺，通过涂布该材料和热处理之后在光刻胶涂层内侧形成硬化层，从而获得小于微米的通孔尺寸或沟槽线宽的微细图形可溶于溶剂型使用显影液可溶于纯水型使用去离子水显影与清边特征在标准光刻工艺无法处理的领域达到超高分辨率许总零适用于
发布日期：2026/6/4 10:10:04 - 光电研究所研究液晶面板制造用正胶AZ RFP-210K
系列光刻胶许总零应用于液晶面板制造的辊式涂布正型光刻胶该光刻胶特别为辊式涂布而研发，使用安全溶剂特征由于高感光度实现高产出率许总零在铬膜和薄膜上实现高附着性同时实现高附着性和高可去除性参考工艺条件前烘秒曝光曝光机显影氢氧化钾秒清洗去离子水秒后烘秒和或分钟烘箱剥离剥离液及或高浓度碱性溶液产品型号深圳市
发布日期：2026/6/4 10:10:03 - 研究所专用研究液晶面板制造AZ RFP-230K2
系列光刻胶许总零应用于液晶面板制造的辊式涂布正型光刻胶该光刻胶特别为辊式涂布而研发，使用安全溶剂特征由于高感光度实现高产出率许总零在铬膜和薄膜上实现高附着性同时实现高附着性和高可去除性参考工艺条件前烘秒曝光曝光机显影氢氧化钾秒清洗去离子水秒后烘秒和或分钟烘箱剥离剥离液及或高浓度碱性溶液产品型号深圳市
发布日期：2026/6/4 10:10:01 - 研究所专用高感光度高热稳定性正胶AZ 6130
系列光刻胶许总零高感光度高热稳定性线正型光刻胶广泛应用于大规模集成电路的高感光度高热稳定性线正型光刻胶特征通过提高光刻胶的热稳定性，从而改善了干法刻蚀的工艺窗口高感光度带来了高产出率很宽的膜厚范围许总零参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机接触式曝光机显影秒清洗去离子水秒后烘秒剥离剥离液及或氧等离子体
发布日期：2026/6/4 10:10:00 - 光电研究所开发第五代液晶面板用正胶AZ SFP-1400
系列光刻胶许总零应用于第五代液晶面板制造的旋涂式正型光刻胶系列适用于第五代液晶面板旋涂工艺，有更好的缺陷控制特性特征许总零减少旋涂方式所产生的缺陷在工艺的各种金属膜上实现高附着性同时实现高附着性和高可去除性宽工艺窗口参考工艺条件前烘秒曝光曝光机显影秒清洗去离子水秒后烘秒剥离剥离液及或高浓度碱性溶液产
发布日期：2026/6/4 10:09:58