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应用于制造和柔性衬底工艺的系列光刻胶正型光刻胶高附着性和高柔软度，适用于在柔性衬底工艺上高感光度，高产出率该光刻胶有着很好的分辨率和热稳定性，从而实现很窄的线宽前烘分钟烘箱曝光线步进式曝光机接触式曝光系统显影显影液秒清洗去离子水秒后烘分钟烘箱剥离剥离液应用于制造和柔性衬底工艺的正型光刻胶该光刻胶有着
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顶部防反射涂层材料系列应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层在超高分辨率下，有必要使用系列改善光刻胶线宽，并降低薄膜干涉造成的驻波效应特征适用于各种高解像度线光刻胶提高了光刻胶表面的亲水性，有效地减少了显影引起的缺陷水溶性溶液，因此适于加入现有的工艺中参考工艺条件条件涂布光刻胶前烘涂布前烘曝光曝光
发布日期：2026/5/21 20:21:28