
系列光刻胶应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶适用于和重布线的超厚膜,高分辨率,对电镀工艺高耐受性正型光特征高分辨率,高垂直性在电镀工艺中不产生膨胀与裂缝高附着性参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机接触式曝光系统显影显影液秒清洗去离子水秒后烘秒以上剥离剥离液及或氧等离子体灰化产品型号深圳市芯泰科光
发布日期:2026/5/25 0:10:40
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发布日期:2026/5/25 0:06:24
系列光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率线正型光刻胶超厚膜,高分辨率,高纵宽比线正型光刻胶,适用于微电镀工艺特征高分辨率,高纵宽比高附着性,对电镀工艺高耐受性多种粘度可供选择参考工艺条件前烘秒以上曝光线步进式曝光机接触式曝光系统显影显影液秒显影液秒清洗去离子水后烘秒以上剥离剥离液及或氧等离子体灰化
发布日期:2026/5/25 0:02:52
系列光刻胶高感光度高附着性线线通用正型光刻胶线线通用高感光度高附着性正型光刻胶,特别为线的关键层优化,特征线,线通用通过提高光刻胶的热稳定性,从而改善了干法刻蚀的工艺窗口通过提高光刻胶的附着性,从而改善了湿法刻蚀的工艺窗口参考工艺条件前烘秒曝光线线步进式曝光机显影秒清洗去离子水秒后烘秒剥离剥离液及或
发布日期:2026/5/24 20:59:21
系列光刻胶高感光度标准线正型光刻胶为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度线正型光刻胶,,特征高感光度,高产出率高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进广泛应用于全球半导体行业参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机接触式曝光机显影秒清洗去离子水秒后烘秒剥离剥离液及或氧等离子体灰化深圳市芯泰科光电有限公司光电
发布日期:2026/5/24 20:55:09
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发布日期:2026/5/24 20:51:02
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发布日期:2026/5/24 20:46:07
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发布日期:2026/5/24 20:41:21
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发布日期:2026/5/24 20:36:37
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发布日期:2026/5/24 20:33:00