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纯钛氧化物旋涂玻璃纯钛氧化物旋涂玻璃是超高介电常数超高折射率的低温旋涂材料，主要用于半导体高密度电容光电器件光学匹配紫外防护晶圆标记及高端器件绝缘平坦化。核心应用场景半导体超高密度电容器介质层核心用途许总射频电容模拟混合信号电容介电常数，大幅提升电容密度减小芯片面积高绝缘强度，适合高压高可靠电容光通
发布日期：2026/5/27 8:02:55 - 湖南省怀化市会同县TGV工艺研发用电话
钛掺杂旋涂玻璃钛掺杂旋涂玻璃是高介电常数高折射率低温旋涂材料，主要用于半导体高密度电容介质光电器件光学匹配晶圆白色标记紫外防护及层间绝缘。核心应用场景半导体高密度电容器介质层核心用途许总电容电容层间电容射频电容高介电常数，大幅提升电容密度降低面积光学器件匹配与波导包覆高折射率用于光输入输出耦合光波导
发布日期：2026/5/27 7:59:05 - 宁夏回族自治区石嘴山市惠农区铜制程材料开发用热线
钛掺杂旋涂玻璃钛掺杂旋涂玻璃是高折射率高介电常数的低温旋涂绝缘材料，主要用于半导体电容器介质光通信器件光学匹配晶圆键合紫外吸收保护及器件平坦化与绝缘。核心应用场景半导体电容器介质层主要用途许总用于电容电容层间耦合电容高介电常数高绝缘强度，提升电容密度与耐压光学薄膜与光通信器件高折射率匹配光器件输入输
发布日期：2026/5/27 7:54:20 - 湖北省孝感市安陆市封装应用咨询2026年专业推荐
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发布日期：2026/5/27 7:50:00 - 河南省濮阳市范县产品年度最佳供应商
超厚正胶它是难附着表面超厚膜光刻高深宽比刻蚀大结构图形低热基板的专用正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力超厚膜正性光刻胶，可实现超厚膜图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制反射缺口后易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶支持边缘珠去除工艺，超厚膜均匀性与结构稳定性优异，广泛应用于
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耐蚀刻正胶它是难附着表面厚膜高精度反射衬底低热基板厚胶刻蚀的理想正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力厚膜正性光刻胶，可实现厚膜图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制一核心应用场景难附着表面厚膜光刻匹配金属合金氧化物氮化物异质结等极易脱膜翘边底切的表面许总要求超高附着力，但不能不推荐使
发布日期：2026/5/27 7:42:15 - 河北省邢台市柏乡县氮化镓芯片材料论文用2026年专业推荐
高精度正胶它是难附着表面中厚膜高精度反射衬底低温简单制程的理想正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力中厚膜正性光刻胶，可实现中厚膜图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制反射缺口后易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶工艺简单兼容性强，广泛应用于难附着表面高反射衬底微细图形加工玻璃低
发布日期：2026/5/27 7:38:40 - 湖南省郴州市资兴市生物芯片材料销售2026特别推产品
高精度正胶它是难附着表面中薄层高精度反射衬底低温简单制程的理想正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力中薄层正性光刻胶，可实现中薄层图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制反射缺口后易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶工艺简单兼容性强，广泛应用于难附着表面高反射衬底微细图形加工玻璃低
发布日期：2026/5/27 7:35:12 - 云南省昆明市晋宁县课题开发热线
高精度正胶它是难附着表面薄层高精度反射衬底低温简单制程的正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力薄层正性光刻胶，可实现薄膜图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制反射缺口后易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶工艺简单兼容性强，广泛应用于难附着表面高反射衬底微细图形加工玻璃低热导基板科
发布日期：2026/5/27 7:30:53 - 云南省楚雄彝族自治州双柏县SOC芯片材料新产品开发2026年特别推荐
高附着力正胶它是难附着表面超薄层高精度反射衬底低温简单制程的正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力超薄正性光刻胶，可实现超薄层图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制反射缺口后易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶工艺简单兼容性强，广泛应用于难附着表面高反射衬底微细图形加工玻璃低热导
发布日期：2026/5/27 7:27:25