发布日期：2026/6/6 22:40:03
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PR1-9000A超厚正胶
它是难附着表面、超厚膜光刻、高深宽比刻蚀、大结构图形、低热基板的专用正胶。
PR1-9000A 是适用于 365nm/436nm 紫外曝光的超高附着力超厚膜正性光刻胶，可实现 6.7–18.9μm 超厚膜图形化，具备优异基材附着力、无需 HMDS 增粘剂、高分辨率、良好线宽控制、反射缺口、RIE 后易去除等特点，室温下保质期长达 2 年。该光刻胶支持边缘珠去除（EBR）工艺，超厚膜均匀性与结构稳定性优异，广泛应用于难附着表面、高反射衬底、超厚膜图形加工、高深宽比刻蚀、玻璃 / 低热导基板、MEMS 与功率器件等领域，尤其适合对附着力与膜厚要求极高的超厚膜正胶光刻场景。
一、核心应用场景
1. 难附着表面超厚膜光刻（匹配）
金属、合金、氧化物、氮化物、异质结等极易脱膜、翘边、底切的表面 许总：15220133370
要求超高附着力，但不能 / 不推荐使用 HMDS的洁净制程
超厚膜依然强附着、不回缩、不脱落、良率极高
2. 365nm / 436nm 双波长超厚膜通用光刻
支持 i-line(365nm) / g-line(436nm) 曝光
实验室多台设备混用、老款接触 / 接近 / 投影式光刻机
436nm 感光度更高，曝光更快、效率更高
3. 高反射衬底超厚膜图形加工
铝、金、铜、银、多晶硅等高反射表面
有效反射缺口（reflective notching），线宽控制稳定
图形边缘光滑、尺寸精度高、厚膜均匀性好
4. 6.7–18.9μm 超厚膜高精度正胶工艺
厚电极、MESA 结构、微线圈、厚屏蔽层、支撑结构、大尺寸沟槽
超厚膜掩模、高深宽比刻蚀、大结构图形化
高分辨率、厚膜均匀、适合长时间干法刻蚀
5. RIE 干法刻蚀后易去除工艺
经过等离子刻蚀后，仍能轻松去胶、不碳化、不残留
适合对去胶洁净度要求高的 MEMS、传感器、功率器件
6. 玻璃 / 石英 / 蓝宝石低热导基板超厚膜光刻
玻璃、石英、蓝宝石等难导热、难附着基底
只需将烘烤时间延长 3.5 倍 即可稳定成膜
超厚膜均匀、无条纹、不脱膜、不翘边
7. 自动化量产边缘去除（EBR）工艺
支持 EBR1 边缘珠去除，适合晶圆自动化制程
避免超厚膜边缘脱落、污染腔体与样品
8. 科研与量产通用超厚膜正胶
室温可存 2 年，无需冷藏，稳定性极强
工艺简单、显影稳定、去胶方便（RR4 或丙酮）
适用范围广、良率高、兼容性强
二、使用 PR1-9000A 的情况
基底难附着、易脱膜、必须超厚胶
不能 / 不推荐使用 HMDS 增粘剂
设备支持 365/436nm 双波长
高反射表面，需要反射缺口
膜厚需求 6.7–18.9μm 超厚膜正胶
希望室温长期保存、工艺稳定、去胶容易
一、产品定位与核心优势
PR1-9000A 为超厚膜正性光刻胶，支持 365nm (i-line)、436nm (g-line) 双波段曝光，兼容各类紫外光刻机。
基材附着力优异：显著优于商用正胶，不推荐使用 HMDS增粘剂
高分辨率与线宽控制，有效反射缺口
感光速度快，提升制程效率
RIE 干法刻蚀后易去除，无残留
室温存储：25℃条件下保质期2 年
二、关键理化参数
表格
参数项 数值 / 条件
固含量 43%–47%
外观 浅黄色液体
涂覆性 非常均匀、无条纹
主溶剂 1 - 甲氧基 - 2 - 丙醇
感光度 365nm 70mJ/cm2·μm
感光度 436nm 40mJ/cm2·μm
保存条件 25℃室温
保质期 2 年
显影液 RD6 碱性水溶液
去胶方式 RR4 或 丙酮
三、膜厚与旋涂参数（115℃热板烘烤 6min 后）
表格
旋涂转速 (rpm) 旋涂时间 (s) 膜厚范围 (nm)
800 40 17100–18900
2000 40 11276–12463
3000 40 8550–9450
4000 40 7738–8552
5000 40 6716–7423
四、标准工艺流程
旋涂涂胶：目标转速旋涂40s
EBR1 除边珠：晶圆边缘处理10s
软烘（二选一）：
115℃热板烘烤 240s
100℃烘箱烘烤 15min
曝光：365nm 或 436nm 波长紫外曝光
显影：RD6 显影液喷淋 / 浸置显影
冲洗干燥：去离子水冲洗至电阻率达标后干燥
去胶：RR4 去胶剂或丙酮去除
五、基板适配要求
良导热基板（Si、GaAs）：使用标准工艺
低热导基板（玻璃）：软烘时间延长 3.5 倍
六、安全注意事项
本品为易燃液体，远离热源、火花、明火
操作环境保持通风，佩戴护目镜、橡胶手套与防护服
禁止吞食，避免接触皮肤、黏膜
4. 关键问题
PR1-9000A 的核心定位与膜厚范围是什么？
答：PR1-9000A 是超厚膜正性光刻胶，膜厚范围6716–18900nm（约 6.7–18.9μm），是 PR1 系列中膜厚厚的型号，专为超厚膜光刻场景设计。
为何 PR1-9000A 不推荐使用 HMDS 增粘剂？
答：该胶自身基材附着力已远超普通商用正胶，使用 HMDS 会降低附着性能，因此不推荐使用。
PR1-9000A 在低热导基板（如玻璃）上使用时需如何调整工艺？
答：玻璃导热性差，需将软烘时间延长至标准工艺的 3.5 倍，确保超厚胶层充分固化，避免膜层不均、脱膜、显影异常等问题。
