发布日期：2026/6/4 0:51:43
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锌掺杂源 + 扩散阻挡层二合一旋涂玻璃（Spin-on-Glass Zn-655）
锌掺杂源 + 扩散阻挡层二合一旋涂玻璃，是专为化合物半导体、LED、光电器件、功率器件设计的 P 型掺杂材料，可在高温扩散中提供稳定锌源并防止锌逃逸，实现均匀、高精度、无梯度的 P 型掺杂。
核心应用场景：
1、化合物半导体 P 型扩散掺杂（主要用途）
GaAs、InP、GaP、GaN、ZnO 基器件P 型区制备 许总：15220133370
一步完成高浓度、均匀、稳定的 Zn 掺杂
2、高温扩散中防止锌逃逸（核心功能）
高温驱动时阻止 Zn 从表面逸出、避免掺杂不足
消除浓度梯度，保证方块电阻均匀、一致性高
3、LED、光电二极管、红外探测器
红光 / 红外 LED、PD、APD、激光器件 P 型层
目标浓度：5×101?–5×101? cm?3 完美匹配器件
4、功率器件 & 射频器件 P 型区调控
二极管、三极管、HEMT、整流器件、微波器件
高纯 <50 ppb，无杂质污染，适合车规 / 高可靠
5、扩散盖帽层（Capping Layer）复合使用
配合 NDG-2000 形成稳定扩散保护系统
提升掺杂精度、提高良率、降低电阻波动
6、科研、流片（MPW）、小批量试制
液态旋涂，无需剧毒源、无需 CVD/PVD
快速做 P 型掺杂、扩散、浓度分布验证
一、产品基本信息
产品全称：Spin-on-Glass Zn-655
核心组分：Si、Zn、O
产品定位：锌掺杂源 + 扩散阻挡层二合一旋涂玻璃
生产厂商：Desert Silicon, Inc.
二、关键性能参数
表格
参数项 数值 / 规格
锌原子浓度 4×1021 atoms/cm3
粘度 0.9 cps
折射率 1.5
旋涂成膜厚度 2500 ? @3000 rpm
20℃保质期 3 个月
4℃保质期 9 个月
纯度等级 <1 ppm 或 <50 ppb
三、产品核心优势
扩散阻挡保护：有效防止基底中掺杂锌在高温扩散时向外逸出
精准浓度控制：终目标锌掺杂浓度稳定在5×101? ~ 5×101? atoms/cm3
成膜均匀性：涂层一致性优异，保证扩散均匀与工艺重复性
超高纯度：杂质含量可控至 <1ppm 或 < 50ppb，满足高端半导体要求
低熔点工艺：熔点低于纯氧化硅，兼容更多半导体热处理窗口
四、典型应用说明
核心用途：化合物半导体P 型锌扩散掺杂工艺
工作原理
表面提供4×1021 atoms/cm3高浓度锌掺杂源
扩散过程中消除浓度梯度，提升掺杂均匀性
锌从表面逸出，保障掺杂效率与目标浓度
配套工艺：可搭配NDG-2000硅酸盐盖帽层协同使用
后处理：扩散完成后可根据工艺需求去除玻璃层
五、包装与配套方案
包装规格：240ml、500ml、1L、2.5L、4L
替代产品：NDG-2000
可添加元素：As、Sb、Bi，支持化合物半导体定制化需求
六、免责与安全提示
文档不提供任何明示或暗示担保；用户需自行验证产品适用性；健康安全信息请查阅MSDS文件。
4. 关键问题
问题：Zn-655 的核心功能与可实现的终锌掺杂浓度范围是多少？
答案：核心功能为P 型锌掺杂源 + 扩散阻挡层；终目标锌掺杂浓度为5×101? ~ 5×101? atoms/cm3。
问题：Zn-655 在 3000rpm 转速下的成膜厚度是多少，其锌源浓度为多少？
答案：3000rpm旋涂可形成2500?厚薄膜；膜内锌源浓度为4×1021 atoms/cm3。
问题：Zn-655 在扩散工艺中为何需要搭配盖帽层，可替代产品是什么？
答案：高浓度锌靠近表面易在高温下逸出，盖帽层可进一步掺杂剂损失；可替代产品为NDG-2000。
