深圳市芯泰科光电有限公司
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超高感光度及超高附着性正型光刻胶，适用于液晶面板制造，特别为 TFT制造工艺优化，使用安全溶剂PGMEA
由于高感光度和高残膜率实现高产出率
在显影及蚀刻时在各种金属膜上实现高附着性
同时实现高附着性和高可去除性
| 产品名称 | 产品价格 | 联系人 | 电话 | 发布日期 |
| 抗氢氟酸保护光刻胶 | 1 元 | 许明久 | 15220133370 | 2026/6/29 9:17:57 |
| 抗氢氟酸保护油墨 | 1 元 | 许明久 | 15220133370 | 2026/6/29 9:17:57 |
| 纳米压印 NIL胶HighRI-CP5-UV1.8 | 1 元 | 许明久 | 15220133370 | 2026/6/29 9:17:57 |
| 纳米复合结构高折射率光刻胶HighRI-Nano2.0 HighRI-Nano2.0 是纳米复合体系 | 1 元 | 许明久 | 15220133370 | 2026/6/29 9:17:57 |
| HighRI Optics有机紫外纳米压印光刻（UV-NIL）Solvent Free 1.70 S | 1 元 | 许明久 | 15220133370 | 2026/6/29 9:17:57 |
| HighRI Optics无溶剂型紫外纳米压印光刻（UV-NIL） | 1 元 | 许明久 | 15220133370 | 2026/6/29 9:17:57 |
