纳米压印 NIL胶HighRI-CP5-UV1.8

HighRI-CP5-UV1.8 是纯有机无填料、高折射率 n=1.808 的紫外固化光刻胶，专为紫外纳米压印设计，高透明、低散射，广泛用于纳米光学、光子晶体、光波导、AR/VR 光栅与光电器件制造。

核心应用场景

1、紫外纳米压印光刻（UV-NIL）（最核心）  许总：15220133370

纳米光栅、光子晶体、超表面结构

波导、耦合器、谐振腔等高精密光学元件

无纳米填料 → 低散射、高透明、表面更光滑

2、微纳光学元件制造

可见光 / 近红外高折射率光波导

微透镜阵列、衍射光学元件（DOE）

显示 / 成像用纳米结构光学膜

3、光子集成芯片（PIC）

硅光 / 氮化硅光芯片包层、匹配层、耦合结构

折射率匹配（n≈1.8），提升耦合效率

4、AR/VR 光学模组

阵列光波导、衍射光栅、耦合光栅

高折射率提升光效，纯有机低缺陷

5、半导体光电器件

LED/PD 光提取 / 增透 / 耦合结构

无填料、低缺陷、高一致性

6、生物 / 医疗微纳光学芯片

微流控光学检测、传感光栅

高透明、化学稳定、生物友好

7、科研实验室：纳米光学原型

高校 / 研究所做纳米压印、高 RI 光学结构

旋涂简单、固化快、图形精度高

一、产品基本信息

HighRI-CP5-UV1.8是由 HighRI Optics 公司开发的纯有机、无纳米填料紫外固化树脂，面向紫外纳米压印光刻（UV-NIL） 应用。

二、核心性能参数

表格

项目 数值 / 描述

化学类型 丙烯酸酯（Acrylates）

折射率 @590nm 1.808

外观 液态

溶剂 环己酮（Cyclohexanone）

固化方式 紫外光固化

固化条件 365nm，27J/cm2

400nm 透过率 94%（1μm 厚膜）

涂布方式 旋涂（Spin coating）

纳米压印能力 支持（Yes）

三、工艺与使用要点

涂布方式：仅支持旋涂工艺，提供旋涂转速 - 厚度曲线

固化要求：

波长：365nm

能量：27J/cm2

使用注意：

必须冷藏保存

氧气会抑制表面固化，建议惰性环境

成型能力：可实现纳米光栅等高精度结构压印（附 SEM 截面图）

四、光学特性

折射率在可见光区稳定维持~1.8

400nm 处透过率 94%（1μm 膜厚），光学透明度优异

无无机纳米填料，避免散射与缺陷，适合光学元件

4. 关键问题

问题：HighRI-CP5-UV1.8 的核心优势与适用场景是什么？

答案：核心优势是纯有机体系、无纳米填料、高折射率 1.808，专为紫外纳米压印光刻（UV-NIL） 设计，适合制作高精度光学纳米结构。

问题：该材料的标准固化条件是什么，对厚度的透光性如何？

答案：固化条件为365nm 波长、27J/cm2 能量；1μm 厚膜在 400nm 处透过率达 94%，光学透明性优异。

问题：使用 CP5-UV1.8 必须注意哪两个关键事项？

答案：一是需要冷藏保存；二是氧气会抑制表面固化，固化时建议隔绝空气。