HighRI Optics有机紫外纳米压印光刻（UV-NIL）Solvent Free 1.70 S
Solvent Free 1.70 是无溶剂、纯有机、折射率 1.70 的 UV 固化树脂，专为紫外纳米压印设计，超高透明（>99%）、无填料低散射，广泛用于 AR/VR 光栅、纳米光学、生物传感、高精度光学元件制造。
核心应用场景
1、紫外纳米压印 UV-NIL（最核心） 许总：15220133370
纳米光栅、光子晶体、耦合结构、衍射光学元件（DOE）
无溶剂 + 无纳米填料 → 超高透明、低散射、图形精度极高
适合对透光率 / 纯度要求极高的光学结构
2、AR/VR 光学微结构
衍射光栅、耦合器、光波导微结构
超高透明（>99%），光损耗极低
3、可见光 / 近红外高性能微纳光学
微透镜阵列、滤波结构、偏振元件
1μm 膜在 400nm 透过率 > 99%，光学品质顶尖
4、生物医疗光学芯片
微流控光学检测、生物传感光栅、荧光增强结构
无溶剂、无填料、生物友好、高洁净
5、高精度光学母版 / 模具
纳米压印母模、塑料复制模具
成型精度高、表面质量好、适合批量复制
6、柔性光学 / 薄膜光学器件
柔性光学膜、曲面光学结构
无溶剂体系应力小、适配柔性基材
7、光电子器件封装 / 保护层
光学级封装、增透层、耦合匹配层
高透明、高折射率、耐热稳定
一、产品基础信息
Solvent Free 1.70是由HighRI Optics公司开发的无溶剂、纯有机体系紫外固化高折射率树脂，不含纳米填料，专为紫外纳米压印光刻（UV-NIL） 应用设计。
二、核心性能参数
表格
项目 关键指标
化学类型 乙烯基（Vinyls）
折射率 @590nm 1.70
外观 粘稠液体
溶剂 无溶剂（No solvent）
固化方式 紫外光固化
固化条件 365nm，40J/cm2
400nm 透光率 ＞99%（1μm 厚膜）
涂布方式 滴铸（Drop casting）、刮涂（Blade coating）
纳米压印能力 支持（Yes）
三、材料与工艺特点
材料体系
纯有机配方，无纳米填料，光学散射极低
无溶剂，无 VOC、无固化收缩缺陷
光学性能
可见光区折射率稳定在1.70
1μm 膜厚在 400nm 处透过率＞99%，超高透明度
工艺特性
上料方式：滴铸 / 刮涂，不支持旋涂
固化条件：365nm 紫外光、40J/cm2
使用注意
必须冷藏保存，保证材料稳定性
氧气会抑制表面固化，建议惰性气氛下固化
微纳成型能力
可制备纳米级高精度光栅（附 500nm/200nm SEM 截面图）
适用于高要求微纳光学结构制造
4. 关键问题
问题：Solvent Free 1.70 的材料体系与光学核心优势是什么？
答案：属于无溶剂纯有机乙烯基体系，不含纳米填料；核心光学优势是折射率 1.70且1μm 厚膜 400nm 透过率＞99%，透明度极高。
问题：该材料的标准涂布与固化方式是什么，有何特殊限制？
答案：涂布采用滴铸或刮涂，不支持旋涂；固化条件为365nm、40J/cm2；需冷藏保存，且氧气会抑制表面固化。
问题：该材料的定位工艺与结构成型能力如何验证？
答案：专为紫外纳米压印（UV-NIL） 设计；通过SEM 电镜图证实可稳定成型200–500nm 级高精度纳米光栅，微纳加工能力优异。
