SOG Ti-1000（钛掺杂旋涂玻璃）
钛掺杂旋涂玻璃（Ti?1000）是高折射率、高介电常数的低温旋涂绝缘材料，主要用于半导体电容介质、光电器件光学匹配、晶圆键合、紫外防护、MEMS 平坦化及光学薄膜制备。
核心应用场景：
1、半导体电容器介质层
MIM/MOS 电容、射频电容、模拟 IC、混合信号芯片 许总：15220133370
高介电常数、高绝缘强度，提升电容密度与可靠性
2、光电器件光学匹配层
折射率 1.8 适配半导体光输入 / 输出耦合
光波导、透镜匹配、光学包覆层、减反膜、滤光膜
3、晶圆键合中介层
用于硅片 / 化合物半导体晶圆低温键合
提升界面附着力、均匀性与气密性
4、紫外（UV）吸收保护涂层
吸收紫外光，保护光敏器件、光刻区、光电芯片
适用于传感器、光学组件、功率器件防护
5、光学透明膜 / 散射膜
可通过工艺调控为透明膜或光散射膜
用于 LED、光电探测器、成像芯片、背光模块
6、晶圆标记与边界层
可形成白色边界 / 标识，用于工艺定位、区域区分
兼容光刻、刻蚀等后续制程
7、MEMS 与微结构器件
层间绝缘、沟槽填充、表面平坦化
低温旋涂，不损伤微机械结构
化合物半导体配套（GaN/GaAs/SiC）
高 k 绝缘层、缓冲层、界面修饰层
适用于射频、功率、光电器件
一、产品基本信息
产品全称：SOG Ti-1000（钛掺杂旋涂玻璃）
核心组分：Ti、Si、O
生产厂商：Desert Silicon, Inc.
二、关键性能参数
表格
参数项 数值 / 规格
折射率 (RI) 1.8
粘度 0.90 ± 0.25 cps
20℃保质期 3 个月
4℃保质期 9 个月
三、产品核心优势
优异的电容器层间介质：高介电常数与高绝缘强度，适配半导体电容制备
涂层均匀性好：成膜一致性高，满足先进制程要求
高折射率：可匹配半导体光输入 / 输出器件，用于光学耦合与包覆层
四、典型应用说明
半导体电容器：利用高介电常数与绝缘强度制作各类电容结构
光学匹配涂层：高折射率适配光器件，用于波导、耦合与包覆层
晶圆键合：可作为晶圆键合辅助层使用
光学薄膜：可形成透明膜或光散射膜，工艺可调
紫外吸收：适用于紫外敏感器件的防护场景
边界标识：特定工艺下可形成白色边界标记
五、包装与配套方案
包装规格：240ml、500ml、1L、4L
替代产品：Ti-452、Ti-100R、Ti-140R
可添加元素：钇 (Y)、锆 (Zr)、铪 (Hf)、铌 (Nb)，支持多元素复配与化合物半导体定制
六、工艺性能数据
不同转速成膜厚度：1500rpm 约85.37nm、2500rpm 约102.5nm、3500rpm 约72.06nm
膜厚均一性优异，标准偏差低至0.20~0.90nm
可见光波段反射率低，成膜光学性能稳定
七、免责与安全提示
文档信息不提供任何明示或暗示担保；用户需自行验证适用性；健康安全信息请查阅MSDS文件。
4. 关键问题
问题：Ti-1000 的核心成分、折射率与粘度分别是多少？
答案：核心成分为Ti、Si、O；折射率为1.8；粘度为0.90±0.25 cps。
问题：Ti-1000 的核心优势与主要应用场景有哪些？
答案：核心优势为高介电常数、高绝缘强度、高折射率、涂层均匀；主要用于电容器介质、光学匹配、晶圆键合、紫外防护、透明 / 散射光学膜。
问题：Ti-1000 有哪些替代产品，可添加哪些元素进行改性？
答案：替代产品为Ti-452、Ti-100R、Ti-140R；可添加 钇 (Y)、锆 (Zr)、铪 (Hf)、铌 (Nb) 元素进行改性。
