高纯高浓度磷掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源（Spin-on-Glass P-640HP）

高纯高浓度磷掺杂旋涂玻璃液态源，专为先进半导体、功率器件、光电器件、MEMS、高端光伏提供低污染、高均匀、高浓度 N 型磷扩散掺杂，是替代传统 POCl?的高纯、低温、安全、高可靠掺杂方案。

核心应用场景：

1、先进集成电路（IC）制造

高端 CMOS、BCD、BiCMOS 工艺N 型重掺杂                        许总：15220133370

源漏、阱区、深埋层、发射区高浓度掺杂

对杂质污染敏感的先进制程专用

2、功率半导体器件

MOSFET、IGBT、LDMOS、FRD 等N + 扩散层

场限环、终端结构、欧姆接触层制备

车规级、高可靠功率芯片

3、光电器件与传感器

光电二极管、APD 雪崩管、红外探测器、图像传感器

需要高均匀、低缺陷、低杂质的掺杂层

提升灵敏度、响应速度与长期稳定性

4、MEMS 微机电系统

硅基 MEMS 结构表面掺杂与钝化保护

低温成膜，不破坏微机械结构

兼顾掺杂、绝缘、防护三重作用

5、高端光伏电池（N 型晶硅电池）

高效 N 型电池高浓度磷掺杂层

降低串联电阻、提升开路电压与转换效率

高纯材料避免杂质引起的效率衰减

6、化合物半导体工艺

GaAs、GaN、SiC 等外延 / 缓冲层 / 欧姆电极掺杂

高频、大功率、光电器件的高纯掺杂源

7、器件可靠性提升（关键功能）

磷作为Na?、K?等可动离子捕获剂（getter）

降低漏电、漂移、失效风险

适用于军工、航天、车规级高可靠芯片

8、科研实验与小批量流片（MPW）

高校、研究所、芯片设计公司高纯掺杂实验

旋涂工艺简单，无需大型 POCl?扩散设备