Nd-350是 Desert Silicon 推出的高浓度钕掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源，核心含Si、O、Nd，钕原子浓度为 4×1021 atoms/cm3，3000rpm旋涂可形成190nm厚薄膜，20℃保质期 3 个月、4℃9 个月，200℃起始固化、650℃以上强化，纯度可达<1ppm 或 < 50ppb，具备成膜均匀、高纯度、熔点更低、工艺稳定等优势，主要用于半导体掺杂，掺杂后玻璃层可去除。
一、产品基本信息
- 产品全称：Spin-on Glass Nd-350
- 产品类型：钕掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源
- 生产厂商：Desert Silicon, Inc.
二、核心成分与关键参数
表格
项目
关键信息
目标元素
Si、O、Nd
钕原子浓度
4×1021 atoms/cm3
薄膜核心元素
钕（Neodymium）
粘度（635nm）
0.9 cps
折射率（635nm）
1.5
旋涂成膜厚度
190 nm（3000
rpm）
固化起始温度
200℃
强化烘烤温度
650℃及以上
保质期
20℃：3 个月；4℃：9 个月
纯度等级
<1 ppm 或
<50 ppb
三、产品优势
- 实现高浓度钕掺杂
- 薄膜涂覆均匀，一致性优异
- 采用高纯度原材料，杂质控制严格
- 熔点低于纯氧化硅，工艺兼容性更好
- 工艺稳定，不受流量影响
- 可提供 <1 ppm 或 <50 ppb 超高纯度规格
四、典型应用
- 应用领域：半导体掺杂
- 工艺特性：200℃开始固化形成低密度固态薄膜；烘烤至650℃以上，薄膜强度持续提升；若保留膜层，建议按后续工艺最高温度烘烤；掺杂完成后玻璃层可去除。
五、包装、替代与定制方案
- 包装规格：240ml、500ml、1L、2.5L、4L
- 替代产品：Al-200、ZnAs-200
- 定制选项：支持多元素复配，可提供化合物半导体专用元素配方
六、免责与安全提示
- 文档信息不提供任何明示或暗示担保
- 用户需自行验证产品适用性并承担使用风险
- 健康与安全信息请查阅MSDS文件
4. 关键问题
- 问题：Nd-350 的核心掺杂元素、浓度与成膜条件是什么？
答案：核心掺杂元素为钕（Nd），浓度4×1021 atoms/cm3；3000rpm旋涂可形成190nm厚的固化薄膜。
- 问题：Nd-350 的固化温度区间、纯度等级与核心优势有哪些？
答案：200℃开始固化，650℃以上强化；纯度可达<1ppm 或 < 50ppb；核心优势为高浓度钕掺杂、成膜均匀、高纯度、工艺稳定。
- 问题：Nd-350 的应用场景、包装规格与替代产品是什么？
答案：用于半导体掺杂，掺杂后玻璃层可去除；包装覆盖240ml~4L；替代产品为Al-200、ZnAs-200。
