B-1200HP是
Desert Silicon 公司推出的中等浓度硼掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源，核心含Si、O、B，硼原子浓度4.1E+21
atoms/cm3，3000rpm旋涂成膜厚度4000?，150–200℃起始固化、650℃以上致密强化，粘度1.2cps，20℃保质期 3 个月、4℃9 个月，具备高纯度、低成本、工艺稳定等优势，主要用于半导体掺杂，掺杂后玻璃层可去除。
一、产品基本信息
- 产品全称：Spin-on-Glass B-1200HP
- 产品类型：硼掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源
- 生产厂商：Desert Silicon, Inc.
二、核心成分与关键参数
表格
项目
关键信息
目标元素
Si、O、B
硼原子浓度
4.1×1021 atoms/cm3
薄膜核心元素
硼（Boron）
粘度
1.2 cps
旋涂成膜厚度
4000 ?（3000
rpm）
固化温度
150–200℃ 起始，650℃及以上致密
保质期
20℃：3 个月；4℃：9 个月
纯度等级
低 PPB 级别
三、产品优势
- 提供中等浓度硼掺杂能力
- 工艺简化，仅需一根推入管
- 维护与使用成本更低
- 采用高纯度材料，达到低 PPB 级
- 成膜均匀
- 熔点低于纯氧化硅
- 工艺稳定，不受流量影响
四、典型应用
- 应用领域：半导体掺杂
- 工艺特性：150–200℃固化形成低密度固态膜；升温至 650℃以上，膜层密度持续提升；建议按后续工艺最高温度烘烤；掺杂完成后玻璃层可去除
- 工艺优势：玻璃态硼比固态源更易加工、更洁净
五、包装、替代与可添加元素
- 包装规格：240ml（8oz）、480ml（16oz），支持大批量定制包装
- 替代产品：B-1000、B-1500
- 可添加 P 型元素：Al、Ga、In，支持多元素复配，兼容化合物半导体掺杂
六、免责与安全提示
- 文档信息不提供任何明示或暗示担保
- 用户需自行验证适用性并承担使用风险
- 健康安全信息请查阅MSDS文件
4. 关键问题
- 问题：B-1200HP 的核心掺杂元素、浓度与成膜参数是什么？
答案：核心掺杂元素为硼（B），浓度4.1×1021 atoms/cm3；3000rpm旋涂可形成4000?厚薄膜。
- 问题：B-1200HP 的固化温度区间、应用场景与工艺优势是什么？
答案：150–200℃开始固化，650℃以上进一步致密；用于半导体掺杂；相比固态源，玻璃态硼更易加工、更洁净。
- 问题：B-1200HP 的产品定位、包装规格与可兼容掺杂元素有哪些？
答案：定位中等浓度硼掺杂；包装含240ml、480ml及大包装；可添加Al、Ga、In等 P 型元素并支持复配。
