一、产品基本信息
- 产品全称：Spin-on-Glass As-300
- 产品类型：砷掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源
- 生产厂商：Desert Silicon, Inc.
二、核心成分与含量
表格
项目
关键信息
目标元素
Si、O、As
砷原子浓度
4×1022 atoms/cm3
薄膜核心元素
砷（Arsenic）
三、关键物理与工艺参数
表格
参数项
数值 / 条件
粘度（635nm）
1.1 cps
折射率（635nm）
1.50
旋涂成膜厚度
3000 ?（300 nm）（3000 rpm）
固化起始温度
200℃
强化烘烤温度
650℃及以上
纯度等级
<1 ppm 或
<50 ppb
保质期
20℃：3 个月；4℃：9 个月
四、产品优势
- 提供业界最高浓度砷掺杂能力
- 成膜均匀
- 采用高纯度原料
- 熔点低于纯氧化硅
- 工艺稳定，不受流量影响
- 可提供 <1 ppm 或 <50 ppb 超高纯度规格
- 砷基体可作为掺杂扩散阻挡层
五、典型应用
- 应用领域：半导体掺杂
- 工艺特性：200℃开始固化形成低密度固态薄膜；烘烤至 650℃以上，薄膜强度持续提升；掺杂完成后玻璃层可去除
- 特殊功能：玻璃中的砷可充当扩散阻挡层，防止基底掺杂材料逸出
六、规格与替代方案
- 包装规格：240ml、500ml、1L、2.5L、4L
- 替代产品：As-200
- 可添加元素：Bi、Sb，支持多元素复配与化合物半导体专用配方
七、免责与安全提示
- 文档信息不提供任何明示或暗示担保
- 用户需自行验证产品适用性，承担使用风险
- 健康与安全信息请查阅MSDS文件
4. 关键问题
- 问题：As-300 的核心掺杂元素、浓度与成膜参数是什么？
答案：核心掺杂元素为砷（As），浓度达4×1022 atoms/cm3；3000rpm 旋涂可形成 3000?（300nm） 厚薄膜。
- 问题：As-300 的固化温度区间、纯度等级与独特功能是什么？
答案：200℃开始固化，650℃及以上强化；纯度可达<1ppm 或 < 50ppb；独特功能是可作为掺杂扩散阻挡层。
- 问题：As-300 的应用场景、包装规格与替代产品是什么？
答案：用于半导体掺杂工艺，掺杂后玻璃层可去除；包装覆盖240ml~4L；替代产品为As-200。
