纳米复合结构高折射率光刻胶HighRI-Nano2.0
HighRI-Nano2.0 是纳米复合体系、折射率 n=2.0 的紫外固化光刻胶，专为紫外纳米压印设计，超高折射率、高透明、低固化剂量，广泛用于 AR/VR 光栅、光波导、超构表面、光子晶体与高性能光电器件制造。
核心应用场景
1、紫外纳米压印光刻（UV-NIL）（最核心） 许总：15220133370
纳米光栅、光子晶体、超构表面、耦合结构
可见光 / 近红外高精度纳米光学元件
折射率 2.0 实现更强光束缚、更高效率
2、AR/VR 衍射光波导
耦合输入 / 输出光栅、出瞳扩展 EPE 光栅
高折射率提升衍射效率、缩小器件体积
3、可见光 / 近红外高 RI 光波导
高折射率波导、微环谐振器、滤波器
小曲率、高集成度光子回路
4、光子集成芯片（PIC）
模场转换器、耦合层、光斑整形结构
与 Si/SiN 光芯片折射率匹配更好
5、LED/PD 光提取 / 光耦合层
高折射率增透 / 出光结构，提升光效
纳米压印批量成型，一致性高
6、超构表面、超材料、元光学器件
平面透镜、偏振调控、波束成形
高折射率带来更强场局域与调控能力
7、生物传感与微流控光学芯片
等离子体传感、光栅传感、表面增强结构
高透明、化学稳定、纳米精度高
8、科研：超高折射率光学原型
高校 / 研究所研发n≈2.0 纳米光学器件
旋涂简单、固化超快、成型精度高
一、产品基础信息
HighRI-Nano2.0是 HighRI Optics 公司推出的纳米复合紫外固化光刻胶，专为紫外纳米压印光刻（UV-NIL） 开发，用于制备高精度微纳光学结构。
二、核心性能参数
表格
项目 关键指标
化学类型 丙烯酸酯（Acrylates）
折射率 @590nm 2.0
外观 液态
溶剂 环戊酮（Cyclopentanone）
固化方式 紫外光固化
固化条件 365nm，2.5J/cm2
400nm 透过率 ＞90%（1μm 厚膜）
涂布方式 旋涂（Spin coating）
纳米压印能力 支持（Yes）
三、材料组成
体系：纳米复合材料
成分：纳米晶体 + 聚合物粘结剂
优势：实现折射率 2.0的同时保持良好加工性与透明性
四、工艺与使用要点
涂布方式：标准旋涂工艺
固化条件
波长：365nm
能量：2.5J/cm2（低剂量快速固化）
存储要求：必须冷藏保存
固化注意：氧气会抑制表面固化，建议惰性气氛
成型能力：可实现纳米光栅等高精度微纳结构（附 SEM 截面图）
五、光学特性
折射率：590nm 处达到 2.0，可见光区保持高折射率水平
透光性：1μm 厚膜在 400nm 处透过率＞90%
适用于可见光 / 近红外高性能光学元件
4. 关键问题
问题：HighRI-Nano2.0 的核心材料体系与折射率是多少？
答案：核心为纳米晶体 + 聚合物粘结剂的纳米复合材料，590nm 波长下折射率为 2.0。
问题：该材料的标准固化条件是什么，有何工艺优势？
答案：固化条件为365nm 紫外光、2.5J/cm2；优势是固化剂量极低、固化速度快，适合量产与高效压印。
问题：使用 HighRI-Nano2.0 必须注意哪两个关键事项，为什么？
答案：① 必须冷藏保存，保证材料稳定性；② 氧气抑制表面固化，会导致表面发粘，因此固化需在惰性环境下进行。
